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        我的位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  金屬膜厚分析儀  >  鍍層ROHS一體機(jī)  >  XAU-4CS涂鍍層 環(huán)保ROHS一體機(jī)光譜分析儀
        涂鍍層 環(huán)保ROHS一體機(jī)光譜分析儀
        簡要描述:

        涂鍍層 環(huán)保ROHS一體機(jī)光譜分析儀 性能優(yōu)勢(shì):1.微小樣品檢測(cè):小測(cè)量面積0.03mm²(加長測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm²)2.變焦裝置算法:可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm3.EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元 素,甚至有同種元素在不同層也可測(cè)量。 4.解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限。 5.高性能探測(cè)器:S

        • 產(chǎn)品型號(hào):XAU-4CS
        • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
        • 更新時(shí)間:2025-08-28
        • 訪  問  量:2412
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        產(chǎn)品詳情

        XAU-4CS是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),是一款一機(jī)多用型光譜儀。

        應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及成分分析。

        被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

         

        產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

        XAU產(chǎn)品優(yōu)勢(shì).png

         

        技術(shù)參數(shù):

        1. 成分分析范圍:鋁(Al)- 鈾(U)

        2. 成分低檢出限:1ppm

        3. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)

        4. 涂鍍層低檢出限:0.005μm

        5. 小測(cè)量直徑□0.1*0.3mm(小測(cè)量面積0.03mm²)

            標(biāo)配:小測(cè)量直徑0.3mm(小測(cè)量面積0.07mm²)

        6. 對(duì)焦距離:0-30mm

        7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm

        8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm

        9. 儀器重量:45KG

        10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍:50mm*50mm

        11. XY軸工作臺(tái)大承重:5KG

         涂鍍層 環(huán)保ROHS一體機(jī)光譜分析儀?

        應(yīng)用領(lǐng)域:

        1600160186925699.png

         涂鍍層 環(huán)保ROHS一體機(jī)光譜分析儀?

        多元迭代EFP核心算法(號(hào):2017SR567637)

        專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

        單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

        多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

        合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

        合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可分析出鎳磷含量比例。

        重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可測(cè)量和分析。

        如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,一層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。

        有害元素檢測(cè):RoHS檢測(cè),可滿足鉛(Pb)、汞(Hg)、鎘(Cd)、六價(jià)鉻(Cr VI)等有害元素的成分檢測(cè)及含量分析

         

        選擇一六儀器的四大理由:

        1.一機(jī)多用,無損檢測(cè)(涂鍍層檢測(cè)-環(huán)保RoHS-成分分析)

        2.小測(cè)量面積0.002mm²

        3.可檢測(cè)凹槽0-30mm的異形件

        4.輕元素,重復(fù)鍍層,同種元素不同層亦可檢測(cè)

         

        配置清單:

        XAU-4CS.png

         

        性能優(yōu)勢(shì):1.微小樣品檢測(cè):小測(cè)量面積0.03mm²(加長測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm²)2.變焦裝置算法:可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm3.EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元 素,甚至有同種元素在不同層也可測(cè)量。   4.*的解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限。   5.高性能探測(cè)器:S

        • 測(cè)量面積:小0.03mm²
        • 鍍層分析:23層鍍層24種元素
        • 儀器特點(diǎn):RoHS鹵素有害元素檢測(cè)
        • 儀器優(yōu)勢(shì):同元素不同層分析
        • 服務(wù)宗旨:專注研發(fā),專業(yè)生產(chǎn),專精服務(wù)
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